Gravure par laser des couches d’ITO

Matériau

Les couches d’ITO (Oxyde d’étain-indium) ont trouvé un large champ d’applications en tant que matériau d’électrodes dans la technologie des écrans pour les écrans tactiles, les diodes électroluminescentes, les diodes électroluminescentes organiques, etc.. Ces couches sont électriquement conductrices et optiquement transparentes. La technologie de dépôt par pulvérisation est habituellement utilisée comme procédure de revêtement standard. Les caractéristiques électriques et de transparence dépendent, entre autres, d’un contrôle précis de la teneur en oxygène durant le procès de revêtement. En outre, la relation entre l’indium et l’étain de l’oxyde peut modifier les caractéristiques des couches d’ITO. Par exemple, si le pourcentage d’étain est diminué, il s’ensuit une augmentation de la conductivité électrique. Il est possible d’appliquer ce matériau sur la plupart des substrats, notamment les substrats en PET (polyéthylène téréphtalate), en triacétate de cellulose, en PEN (polyéthylène naphténate), en verre, etc.

Gravure par laser

Les domaines d’applications mentionnés ci-dessus pour les couches d’ITO requièrent tous de la gravure. Il est possible d’utiliser différents procédés de gravure, comme par exemple le dépôt par pulvérisation au-dessus de masques, la lithographie, la sérigraphie, etc., mais un procédé simple et efficace est la gravure par laser. La compagnie LPKF laser & Electronics AG a mis au point un procédé procurant de très bons résultats pour la projection sur des masques de base. Ce procédé peut être utilisé à la fois dans les procédures batch et dans les procédures à bobines. L’efficacité de l’ablation par laser réside dans le fait qu’on utilise le mode à un coup, c-à-d que la couche d’ITO est complètement enlevée avec une seule et unique impulsion laser.